El Museo de Arte Contemporáneo Gas Natural Fenosa (MAC) inaugura la exposición colectiva Excusa Argumental, que presenta el trabajo creativo desarrollado por los artistas que se beneficiaron del Programa de Residencias Artísticas desde su inicio en 2012 hasta 2014. De los 29 creadores -11 internacionales y 18 gallegos- que participaron en el programa, 25 de ellos formarán parte de esta exposición. El Programa de Residencias Artísticas nació en 2012 con el objetivo de incentivar la investigación y la producción artística, facilitar la producción artística local, contribuir a la promoción de los creadores y promover la movilidad internacional e intercambio de artistas y otros profesionales de la cultura. Esta experiencia reafirma la intención de convertir el Museo en un espacio de trabajo transdisciplinar, dinámico y abierto a todo tipo de iniciativas artísticas, culturales y sociales en las que el diálogo e intercambio entre lo local, lo global y la colaboración sean...principios fundamentales. Los 29 beneficiarios de residencias artísticas a lo largo de estos dos años han sido: -Internacionales: Oliver Blank, Anaisa Franco, Jeremy Keenan, Thu Kim Vu, Pablo Mercado, Antonio Montalvo, Álvaro Muñozledo, Luciana Ohira y Sergio Bonilha, Ricardo O'Nascimento, Claire de Santa Coloma y Stephan Weitzel -Locales: Iria do Castelo, David Castro, Samuel Castro Martínez, Rosendo Cid, Jorge Couceiro, Weina Ding, DSK (Belén Montero y Juan Lesta), Sonia Esturao, Félix Fernández, Christian García Bello, Ignacio García Gómez del Valle, Paola Guimerans, Enrique Lista, Miguel Mariño, María Ozámiz, Celia Parra, María Peña Lombao e Ignacio Pérez. La exposición, que está comisariada por Ignacio García Gómez del Valle (Santa Cruz de Tenerife, 1978), artista a su vez participante en el Programa de Residencias Artísticas durante el periodo mayo/junio de 2014, estará abierta al público hasta el próximo 15 de marzo de 2015.
